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該噴膠機(jī)采用先進(jìn)的噴嘴設(shè)計(jì),確保了噴膠過(guò)程中的精確度和重復(fù)性。其獨(dú)特的噴嘴高度調(diào)節(jié)機(jī)制,允許用戶根據(jù)不同的基材和工藝需求進(jìn)行微調(diào),從而實(shí)現(xiàn)最佳的噴涂效果。此外,噴膠機(jī)的加熱系統(tǒng)設(shè)計(jì)精良,能夠快速達(dá)到設(shè)定溫度,并保持溫度的穩(wěn)定,這對(duì)于保證光刻膠的均勻分布和固化至關(guān)重要。

關(guān)鍵詞:

集束

隱藏域元素占位

噴膠機(jī)

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該噴膠機(jī)采用先進(jìn)的噴嘴設(shè)計(jì),確保了噴膠過(guò)程中的精確度和重復(fù)性。其獨(dú)特的噴嘴高度調(diào)節(jié)機(jī)制,允許用戶根據(jù)不同的基材和工藝需求進(jìn)行微調(diào),從而實(shí)現(xiàn)最佳的噴涂效果。此外,噴膠機(jī)的加熱系統(tǒng)設(shè)計(jì)精良,能夠快速達(dá)到設(shè)定溫度,并保持溫度的穩(wěn)定,這對(duì)于保證光刻膠的均勻分布和固化至關(guān)重要。

1、最低反應(yīng)溫度≤50℃(HfO2、Al2O3); 2、均勻流場(chǎng),低溫工藝顆粒少; 3、深寬比≥70:1,保型生長(zhǎng)。

關(guān)鍵詞:

隱藏域元素占位

TALD-150L原子層沉積系統(tǒng)

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1、最低反應(yīng)溫度≤50℃(HfO2、Al2O3); 2、均勻流場(chǎng),低溫工藝顆粒少; 3、深寬比≥70:1,保型生長(zhǎng)。

科民電子集成電路產(chǎn)教融合成套設(shè)備含曝光機(jī)、雙腔ALD、PVD、ICP刻蝕機(jī)共20臺(tái)

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隱藏域元素占位

熱烈祝賀科民電子20套集成電路設(shè)備成功進(jìn)入廈門大學(xué)產(chǎn)教融合平臺(tái)

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科民電子集成電路產(chǎn)教融合成套設(shè)備含曝光機(jī)、雙腔ALD、PVD、ICP刻蝕機(jī)共20臺(tái)

集束型薄膜沉積系統(tǒng)

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集束

隱藏域元素占位

集束型薄膜沉積系統(tǒng)

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集束型薄膜沉積系統(tǒng)