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TALD-150L原子層沉積系統(tǒng)
1、最低反應(yīng)溫度≤50℃(HfO2、Al2O3);
2、均勻流場(chǎng),低溫工藝顆粒少;
3、深寬比≥70:1,保型生長(zhǎng)。
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浙江省嘉興市南湖區(qū) 亞太路778號(hào)9號(hào)樓南一區(qū)

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