ALD-HS系列原子層沉積系統(tǒng)是專為在線連續(xù)生產(chǎn)開(kāi)發(fā)的高速時(shí)間型原子層沉積系統(tǒng)，適用于從200mm到2400mm的各種規(guī)格玻璃基板和硅片,通過(guò)在線傳輸系統(tǒng)上下料，大尺寸基板節(jié)拍可達(dá)30s。在高生產(chǎn)節(jié)拍的基礎(chǔ)上，保留時(shí)間型原子層沉積系統(tǒng)的所有優(yōu)點(diǎn)（高薄膜質(zhì)量、高致密性）
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關(guān)鍵詞: 高速原子層沉積系統(tǒng)
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